• 行业资讯
  • 公司动态
  • DKG ONE-CF4 光声光谱分析仪:洁净室 AMC 监测的 “超灵敏 + 低维护” 新选择

    发布于:2025-10-21 作者: 来源:

    在洁净室生产环境中,气态分子污染物(AMC)的精准监测是保障产能的关键环节。DKG ONE-CF4光声光谱痕量四氟化碳气体分析仪,凭借创新技术与卓越性能,为洁净室CF4污染物监测提供了高效、稳定且低成本的解决方案,重新定义痕量气体监测标准。

    15-光声光谱痕量级甲醛气体分析仪.jpg

    核心技术:双重创新筑牢监测精度基石

    DKG ONE-CF4光声光谱痕量四氟化碳气体分析仪的精准监测能力,源于两项核心技术的深度融合,从根源上突破传统设备局限:

    1.超灵敏探测系统:搭载超灵敏专利光学悬臂梁麦克风,结合激光干涉仪可精准捕捉悬臂梁微观运动;搭配分布式反馈量子级联激光(QCL)光源,精准聚焦CF4中红外基本光谱吸收峰,能无延迟探测微小浓度的CF4喷溅或溢出,监测下限(LoD)低于0.1 ppb,实现痕量污染物“零遗漏”。

    2.稳定无漂移设计:采用直接吸收式检测原理,具备“零背景”特性,无需依赖任何耗材或化学试剂。在运行过程中,即使环境温度、样品压力在规定范围内变化,也不会引发设备漂移,重新校准周期可长达数月甚至数年,彻底摆脱频繁校准的困扰。


    核心优势:多维度满足洁净室监测需求

    从监测效率到运维成本,DKG ONE-CF4光声光谱痕量四氟化碳气体分析仪全方位适配洁净室复杂场景,为用户创造多重价值:

    监测性能卓越:响应时间可灵活设置(5秒-3分钟),能快速捕捉污染物浓度突发上升;动态量程超5个数量级(为检测下限的100,000倍),单点校准即可达到业内领先水平;且具备高选择性,完全不受乙醛及其他VOC干扰,确保数据精准可靠。

    操作灵活便捷:提供三种机箱方案适配不同场景——单气体分析机型配备高分辨率显示屏与旋转按钮,界面直观易懂;可选便携式外箱,便于可预见泄漏区域的移动检测;多单元可整合为移动式监测系统,能快速转移至不同关键测点,实现全方位覆盖。

    运维成本极低:内置气体交换泵与气体交换系统,样品需求量仅几毫升,大幅减少气体消耗;无耗材设计省去更换成本,长达数年的校准间隔降低人工与时间投入;19”3U外壳适配台式或机架安装,节省洁净室空间。


    硬核参数:全场景适配工业需求

    在通用性能与环境适应性上,DKG ONE-CF4光声光谱痕量四氟化碳气体分析仪完全契合工业洁净室的严苛标准,保障稳定运行:

    通用配置全面:内置计算机与7英寸宽屏显示器,支持数字式与图线式结果显示;数据存储量充足,在最短采样间隔下可连续存储一年数据;接口丰富,涵盖以太网、USB,可选RS485、RS232、电流输出、电压输出、MODBUS及AK协议,还能通过手机、平板、电脑远程控制,操作便捷。

    环境适应性强:运行温度覆盖0℃-49℃,储存温度范围-20℃-60℃;在750mbar-1050mbar压力、无凝露环境下可稳定工作(温度达35℃时最大相对湿度80%,温度达49℃时线性下降至35%);防尘防水等级达IP20(IEC 529),适配多数工业洁净室环境。

    合规性有保障:严格符合低电压指令2014/35/EU、EMC指令2004/108/EC及ROHS 2指令2011/65/EU,在安全性、电磁兼容性与环保性上均达到行业规范,可放心投入工业生产场景。


    应用价值:为洁净室产能保驾护航

    洁净室污染物水平直接影响生产质量与产能,DKG ONE-CF4光声光谱痕量四氟化碳气体分析仪通过准确、可靠、低维护的AMC监测,可实时掌控CF4污染物浓度,避免因泄漏导致的生产损失。其独立运行特性与灵活的安装、移动方案,可广泛应用于半导体、电子制造、精密化工等依赖洁净室生产的行业,为企业降本增效、提升核心竞争力提供关键技术支撑。

    咨询电话 010-8243-3533
    版权所有 © 北京杜克泰克科技有限公司 京ICP备14007870号-1